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第321章 怒吼的学术权威

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顾所长同意对重光公开全所员工档案,并召开全体员工大会,这让胡一亭感到满意,于是接下来大家继续讨论晶圆厂的设备和214所的技术储备。顾所长身边已经渐渐聚集了一批所里的工程师们,足有十五、六人之多,都好奇地打量着胡一亭和康耀祥,认真地听他们说什么。

康耀祥毫不怯场,站在无尘车间的走廊里,隔着墙玻璃指着厂房里的光刻机道:“作为试验线,1.5微米还是保守了。

现在成都光机所已经拿出了0.8微米分步重复投影光刻机,今年1月份以工艺流片成功率80%以上的好成绩通过了国家验收,目前正在北都微电子中心进行设备的安装调试。

按照计划,他们打算今年年底之前,大概11月12月的样子,就可以开始进行国产设备的‘0.8微米CMOS全套工艺’的工艺考核,预计半年之内可以见分晓。

到时候咱们国家就算是正式拥有了属于自己的0.8微米制程全套生产设备和制造工艺了!我看这次考核一定能通过!原因很简单,目前0.8微米制程工艺已经在微电子所实现了高良品率的实验通过,而且这段时间经过908华晶工程的检验,完全可以满足高良品率的生产制造任务!

华晶厂目前以0.8微米制程工艺生产我们重光的CMP1J1芯片,良品率已经超过了70%,并且还把一微米制程的游影霸王芯片成功移植到了0.8微米制程上,达到了60%以上的良品率。

所以乐观地说,我国目前基本上是已经掌握了了0.8微米制程工艺和设备制造的自主技术,唯独欠缺的是0.8微米制程下的IC设计能力,这方面国内也只有我们重光一家有着深厚的功底和成功经验,毕竟目前可供使用的试验线实在太少了,屈指可数的那几家IC设计单位,也都没有很强的工艺储备,研发经验比起国外公司差的太多。

我们重光要保持领先优势,就必须继续在新工艺上持续研发,不能满足于0.8微米制程的设计,还要为将来的0.35微米制程工艺储备技术和试验参数。

所以胡总和我商量之后,决定把你们214所这条线进行技术改进,打算向中科院光电技术研究所也就是成都光机所下订单,与北都微电子中心同步安装他们的0.8-1微米分步重复投影光刻机。”

顾所长闻言赞道:“我知道你们重光公司是国内唯一一家有0.8微米集成电路设计技术的企业,你们能把所里的这个晶圆厂提升到什么程度,我们也很好奇啊,你们打算怎么搞,能说说嘛?呵呵呵,要是方便的话。”

214所的工程师们也都点头,很想知道重光打算怎么改造这条线路。

胡一亭见在场的都是工程师,于是便坦诚相告道:“我们打算从长春光机所订一套高参数标准的物镜,缩小倍率大约是八倍到十倍,用来替换成都光机所这款光刻机上的五倍物镜。

当然这个花费很大,不过目前我已经有了新物镜的初步设计方案,等我把设计思路大体搞出来以后,就派人去和长光所谈,不管多少钱,总要不惜代价的把东西做出来。

当然,换了物镜之后,良品率肯定是不能保证了,但既然是试验线路,也不在乎这个问题。

另外提升制程的办法还有很多,比如控制光刻胶的厚度,或者用流明度更高的进口胶代替国产胶,再比如设计更精准的步进电机以改善套刻精度,或者干脆缩小像场尺寸,等等等等,手段五花八门,反正这里大家都是内行,应该对这些都不陌生吧。”

有工程师道:“胡总你年纪轻轻,但一听你说话,我就知道你是内行,真不简单啊!你真的才17岁吗?”

“哈哈哈……”

此言一出,车间走廊里立刻响起了一片善意的笑声。

胡一亭笑道:“我是天才嘛,这一点江水书记都承认,你们还信不过我吗?我解的庞加莱猜想你们看过吗?觉得怎么样?”

有工程师道:“胡总工你好,我叫奚龙山,我看过你的庞加莱猜想,不过看了一半就看不懂了,很惭愧啊,但我相信你是天才,真的!你很了不起!”

胡一亭问:“奚工你留不留下?”

奚龙山道:“我本来是想去庐州的,毕竟是省会大城市嘛,但看了你的《庞加莱猜想暨几何化猜想的完全证明》之后,我还是挺心动的,觉得你们重光是有很强的核心技术的,毕竟你们设计的几款芯片和程控机名气现在都很大,所以我主动申请留下来了。”

胡一亭和康耀祥几乎同时道:“欢迎你加入重光!”

奚龙山仿佛要考考胡一亭和康耀祥,问道:“胡总工,康总工,我们这套光刻机也是成光所的,自从把线宽从3微米调整到了1.5微米之后,透镜的发热问题就很严重了,你们将来要把五倍物镜换成8到10倍,那你们打算怎么解决曝光能量的发热问题,发热后引起镜头变形和偏焦,长时间这么干,那可要把设备毁了的。”

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